КЛИУС

Взаимодействие высокоэнергетичных кластеров с поверхностью твёрдой мишени характеризуется рассеянием энергии до нескольких десятков кэВ на поверхности с линейными размерами в десятки ангстреми вызывает нелинейные эффекты, которые не наблюдаются при традиционной обработке ионным пучком.

Большое практическое имеет приповерхностная имплантация атомов, которая, в отличие от имплантации в глубинные слои, эффективно осуществляется только кластерными ионами.  Высокоскоростное напыление с предварительной подготовкой подложки кластерно-ионным ударом позволяет наносить более ровные и тонкие плёнки. Сглаживание поверхности до атомарного уровняявляется одной из важнейших задач в области микроэлектроники, так как позволяет улучшить теплопроводящие характеристики зоны контакта двух твёрдых объектов. Полировка газовыми кластерными ионами, полученными из инертного   газа, как раз позволяет достичь нужного уровня шероховатости (Ra около 5 нм). При различных энергиях, различных составах газово-кластерной смеси и направлениях потока можно добиться любого из описанных эффектов.

КЛастерно-Ионная-УСтановка, разработанная в Отделе прикладной физики в 2012 году предназначена исключительно для отработки методики кластерно-ионной полировки материалов и является прототипом для создания промышленной установки, которая сможет быть использована в технических процессах изготавления микро- и нано- электроники, получении новых композитных материалов и других перспективных проектах. Оборудование используется лабораторией ионно-кластерных технологий.